Реакція затвердіння рідкої силіконової форми для лиття під тиском відбувається при температурі форми 120 ~ 150℃, контроль температури форми єдуже важливо:

Температура поверхні формипотребую бути стабільним:

If  tтемпература поверхніis занадто високий, вироби підгорять, лінія поділу потріскається, вироби стануть крихкими тощо.
Ifстемпература поверхні занадто низька, швидкість затвердіння клею повільна, вироби не можна витягти з форми та інші проблеми з якістю;

Температура форми повинна бути нагрітоюрівномірно

If нагріву форми немаєрівномірнорізниця температур велика to зробити нестабільність потоку гумового матеріалу, легко з'явитися повітря, невдоволення ін'єкції та інші явища;

Розташуванняобігрівач:

Між нагрівачем і лінією поділу повинна бути достатня відстань, щоб запобігти викривленню і деформації виробу, що призведе до утворення задирок на готовому виробі;

Порівняння режимів термостатування методів нагріву

Нагрівальний стрижень:
Нагрівальний стрижень свердлять пістолетним свердлом.Зазор між нагрівальним стрижнем і отвором призведе до нерівномірного теплообміну, і нагрівальний стрижень легко пошкодити.Крім того, кілька груп нагрівальних стрижнів мають одну групу датчиків температури, тому пошкодження нагрівального стрижня неможливо виявити, а температура форми нерівномірна.Ретельний вибір

Нагрівальна плита:
Нагрівальна пластина розташована в нижній частині ядра матриці, близько до ядра матриці.Нагрівальна плита розроблена з незалежним датчиком температури та замкнутою конструкцією, щоб забезпечити контроль температури та рівномірність температури нагрівальної плити.пропозиціявикористовує